International Symposium on Optical Memory 2010にてM2の最田君が”Design of Reference Pattern and Input Phase Mask for Coaxial Holographic Memory”の発表をしました．初めての海外（台湾，花蓮）の国際会議（シンポジウム）の発表でしたが，準備（右下の写真．研究室でのリハーサル）をしっかりとしておいたので，上の写真のように無難にこなしていたようです． ポスターもよく目立っていました．Good Job!

右上の写真は発表が終わって一息ついているところです．言葉は，漢字圏なのでなんとかなると思っていましたが，あまかったですね．英語も通じないところがほとんどでした．